集成电路的生产制造是一个非常复杂的过程，其中，光刻技术是最复杂的技术之一，微纳直写光刻系统除了数字光刻技术之外，超精密运动平台起着举足轻重的作用，地心科技的运动平台广泛应用于PCB直接成像设备、泛半导体直写光刻设备，以及其他激光直接成像设备。

CFT系列XY直线平台

• XY一体式设计直驱平台

• 双轴四电机驱动，动态性能出色

• 交叉滚柱导轨，直线度在±2μm/300mm以内

• 结构紧凑，低侧面高度，阿贝误差小

• 200mm*200mm和300mm*300mm行程可选

• 分辨率1nm，重复定位精度±100nm，定位精度±400nm

• 步进轴在位稳定性3nm（配置ASH反馈选项和线性放大器）

• AS、ASH、TTL等多种反馈选项

Surface系列平面气浮平台

• 高动态性能（截止频率>330Hz）

• 双驱轴、横梁轴均采用空气导轨的H型式结构

• XY平面式设计，低侧面高度，阿贝误差小

• 最大速度2m/s，最大加速度2g

• 分辨率1nm，在位稳定性±8nm

• Pitch、 Yaw < 3arcsec

• 重复定位精度±100nm，定位精度±250nm

• 选用高精密零膨胀系数光栅反馈，膨胀系数低，受温漂影响小

• 可搭配Surface Z、Theta组成四轴系统

• 行程可定制

Surface Z系列升降台

• 采用高精度音圈电机，空载截止频率大于120Hz

• 可实现15ms 完成1um步进并整定到±50nm的优异动态性能

• 根据客户负载配重，无需供气配重

• 动态性能优异，自动对焦精度小于100nm

• 在位稳定性10nm，可保证高频率测距聚焦

• 可集成精密吸盘，减少客户集成工作

Surface Theta系列转台

• 高精密直驱转台

• 结构紧凑，低侧向高度

• 重负载高精度

• 可选数字量或模拟量高精度圆光栅位置反馈

• 无刷无齿槽伺服电机直驱，转速超过400rpm

• 0.05角秒最小步进，±1角秒重复性

• 丰富的配置选项，可选气管旋转单元或限位