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晶圆直写及制版光刻

晶圆直写及制版光刻

集成电路制造过程高度复杂，其中光刻技术是关键环节之一。在微纳直写光刻系统中，除数字光刻技术外，超精密运动平台亦发挥着至关重要的作用。

地心科技的运动平台已广泛应用于PCB直接成像设备、泛半导体直写光刻设备及其他激光直接成像设备中，为各类光刻工艺提供稳定可靠的运动支撑。

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